반도체 산업에서 새로운 기회를 찾고 있는 기업들에게 있어, 중국의 28나노미터 Lithography 장비의 등장은 저렴하고 최신 기술을 활용할 수 있는 좋은 기회가 됩니다. ASML의 지배력이 중국의 발전으로 인해 위협받고 있기 때문에, 전 세계의 기업들은 ASML의 극초단파(UV) 장비에 필요한 막대한 투자 없이도 고품질의 마이크로칩 생산을 할 수 있습니다. 이러한 중국산 장비의 낮은 비용 덕분에, 특히 기존의 전통적인 Lithography 장비의 높은 비용 때문에 마이크로칩 제조 분야에 진출할 수 없는 기업들도 더 많은 기회를 얻게 될 것입니다.
중국의 성공의 핵심은 반도체 연구 개발에 대한 장기적인 투자에 있습니다. 28나노미터 공정 기술은 전체 전략의 일부에 불과하지만, 이러한 기술들은 이미 글로벌 시장에 큰 영향을 미치고 있습니다. 중국의 기술은 깊은 자외선 lithography를 사용하여, 제곱센티미터당 최대 2억 개의 트랜지스터를 가진 마이크로칩을 생산할 수 있습니다. 이는 ASML의 장비와 비슷한 수준입니다. 하지만 주된 차이점은 비용입니다. 중국의 장비는 ASML의 장비보다 훨씬 저렴합니다. 중국의 장비의 비용은 2천만 달러에서 5천만 달러 사이이며, ASML의 장비는 1억 달러 이상의 비용이 듭니다. 이러한 비용 효율적인 기술 덕분에 ASML, 니콘, 캐논 같은 기업들은 경쟁으로 인해 시장 점유율이 줄어들고 있습니다.
중국이 반도체 생산에서 자급자족을 목표로 삼은 덕분에, SMIC와 같은 중국 반도체 제조업체들이 완전히 국내 기술로 개발된 28나노미터 공정과 같은 혁신적인 성과를 이루었습니다. 이러한 성과는 외국 기술에 대한 의존성을 없애주며, 중국의 시장 내 위치를 더욱 강화시켜줍니다. 이러한 발전들은 반도체 산업 내 권력 구조에 큰 변화를 가져옵니다. 7나노미터 및 5나노미터 기술로의 지속적인 전진을 통해, 중국은 리소그래피 및 마이크로칩 생산 분야에서의 역할을 점점 더 강화할 것입니다. 이는 오랫동안 업계를 선도해온 기업들에게 적응하거나 뒤처지게 될 위험을 안겨줍니다.